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非線形偏光回転は、ファイバーレーザーで最も一般的な同等の可飽和吸収体です。この技術は、パルスの異なる部分が、レーザキャビティに異なる蓄積することができるように、ファイバ内の非線形屈折率および複屈折効果を利用します。位相シフト、したがって異なる偏光状態に進化し、次にアナライザによる偏光選択、周期的変調の導入、および可飽和吸収体の作用に相当する時間領域でのパルスの狭まり効果に対応します。

現在、非線形偏光回転に基づいたモード同期ラマンファイバーレーザーに関する多くの報告があります。 2015年、Kuang et al。非線形偏光回転モード同期に基づく超高速ラマンファイバーレーザーの取得に成功しました。レーザーはマルチモード連続レーザーでした。ポンピングソースは、図2（a）に示すようなデバイス構造を持ち、WDMは波長分割マルチプレクサー、EDFはエルビウム添加ファイバー、EDFAはエルビウム添加ファイバー増幅器、CWは連続波、HNLFは高度に非線形なファイバー。 PCは偏光コントローラーであり、PDIは偏光依存アイソレーターです。 2つの偏光コントローラーと偏光ストッパー偏光維持アイソレーターは、非線形偏光回転モード同期の典型的な構造です。ゲインファイバは長さ500 mの高直線性ファイバであり、超高速ラマンレーザーの中心波長は1651.3 nmです。パルス幅は890 psで、パルス繰り返し周波数は378.35 kHzです。出力パルスの時間領域エンベロープとパルスシーケンスを、それぞれ図2（b）と2（c）に示します。

同じ年に、Liu等。ピコ秒の超短パルスとナノ秒の短パルス出力を実現できるモードロックラマンファイバーレーザーを報告しました。同じ非線形偏光回転メカニズムが使用されます。デバイス構造は、図3に示されている（）、OCは、出力カプラとPD-ISOであるRFLラマンファイバレーザ、偏光依存アイソレータです。使用されるゲインファイバは、長さ710 mの高線形光ファイバです。偏光コントローラのさまざまな状態を調整することにより、レーザーはそれぞれピコ秒超短パルスおよびナノ秒短パルス出力の状態で動作でき、パルス幅はそれぞれ180psおよび500nsです。 2つの状態のパルスシーケンスと時間領域エンベロープを図に示します。 3（b）および3（c）。図3（d）と3（e）は、スペクトルと2つの状態のスペクトルを示しています。出力パルスの繰り返し周波数は275kHzで、スペクトルの信号対雑音比は65dBです。